アクセリス、富山県で開催される イオン注入技術国際会議2024への協賛および参加を発表
【画像：https://kyodonewsprwire.jp/img/202409045873-O1-dc69l8OW】
マサチューセッツ州ビバリー, 2024年9月4日 /PRNewswire/ -- 半導体業界向けにイオン注入ソリューションを提供する業界大手のアクセリス・テクノロジーズ株式会社（NASDAQ：ACLS）は、9月23日～26日まで富山国際会議場で開催されるイオン注入技術国際会議2024（IIT 2024）に最高位のプラチナスポンサーとして協賛出展し、最新のイオン注入技術を紹介します。2年に1度開催されるIIT、その第24回目となるIIT 2024では、インプラント／ドーピング、アニールプロセス、デバイスアプリケーション、装置、計測、モデリングに関連する現在の技術と新技術の主要課題に重点を置きます。
本会議にアクセリスは企業として出展し、自社の技術者や協力者が以下の9つのテーマについてプレゼンテーショを行う予定です。
パワーデバイス向け大電流ドーピング用アルミニウムスパッタリングソース性能について
気相分解誘導結合プラズマ質量分析法を用いた、Purion XEmax Boost™技術の有/無における、表面およびエネルギー持つ金属汚染評価
高エネルギーH+ビームの放射線特性の評価と緩和策
静電チャック長寿命化と安定性能を達成するための耐摩耗性表面コーティング自己完結
型予測システム診断センサー
超高エネルギー注入におけるヒ素とアンチモンのドーパント分布プロファイル比較
イオン注入とアニーリングの最適化によるワイドバンドギャップ素材の新たな課題と機会
アクセリス社製高エネルギーイオン注入装置用デュアルカソードイオン源
低金属イオン源
アクセリス・テクノロジーズのラッセル・ロウ社長兼最高経営責任者（CEO）は次のように述べています。「イオン注入業界で最も重要な技術フォーラムの1つであるIIT 2024のプラチナスポンサーを務めることができ、大変光栄に思います。特に、アクセリスにとって非常に重要な市場である日本でのイベントに今年参加できることを嬉しく思います。アクセリスは、拡大する顧客基盤に対応するため、日本国内に複数の拠点を新たに開設いたしました。私たちは、最も革新的で効果的なインプラント技術とサポートソリューションを提供し、お客様の成功を確実にサポートすることで、自社の世界的な市場シェアの拡大に引き続き注力していきます」
IIT 2024の詳細や登録については、IITの公式ウェブサイトhttps://smartconf.jp/content/iit2024をご覧ください。
アクセリスについて：
マサチューセッツ州ビバリーに本社を置くアクセリス（Nasdaq：ACLS）は、45年以上にわたり半導体業界に革新的で生産性の高いソリューションを提供してきました。アクセリスは、IC製造プロセスにおいて最も重要で不可欠な工程の一つである、イオン注入システムの設計、製造、および完全なライフサイクルサポートを通じて、最適なプロセスアプリケーションを実現する開発に従事しています。アクセリスの詳細については、www.axcelis.comをご覧ください。
お問い合わせ：
投資家様向けお問い合わせ先：
デビッド・ライツィク
投資家関係・経営戦略担当上級副社長
電話：(978) 787-2352
Eメール：David.Ryzhik@axcelis.com
報道・メディア関係者様向けお問い合わせ先：
モーリン・ハート
コーポレート＆マーケティング広報担当上級取締役
電話：(978) 787-4266
Eメール：Maureen.Hart@axcelis.com
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（日本語リリース：クライアント提供）
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1954年に設立された世界初の米国広報通信社です。配信ネットワークで全世界をカバーしています。Cision Ltd.の子会社として、Cisionクラウドベースコミュニケーション製品、世界最大のマルチチャネル、多文化コンテンツ普及ネットワークと包括的なワークフローツールおよびプラットフォームを組み合わせることで、様々な組織のストーリーを支えています。www.prnasia.com
プレスリリース詳細へ https://kyodonewsprwire.jp/release/202409045873
マサチューセッツ州ビバリー, 2024年9月4日 /PRNewswire/ -- 半導体業界向けにイオン注入ソリューションを提供する業界大手のアクセリス・テクノロジーズ株式会社（NASDAQ：ACLS）は、9月23日～26日まで富山国際会議場で開催されるイオン注入技術国際会議2024（IIT 2024）に最高位のプラチナスポンサーとして協賛出展し、最新のイオン注入技術を紹介します。2年に1度開催されるIIT、その第24回目となるIIT 2024では、インプラント／ドーピング、アニールプロセス、デバイスアプリケーション、装置、計測、モデリングに関連する現在の技術と新技術の主要課題に重点を置きます。
本会議にアクセリスは企業として出展し、自社の技術者や協力者が以下の9つのテーマについてプレゼンテーショを行う予定です。
パワーデバイス向け大電流ドーピング用アルミニウムスパッタリングソース性能について
気相分解誘導結合プラズマ質量分析法を用いた、Purion XEmax Boost™技術の有/無における、表面およびエネルギー持つ金属汚染評価
高エネルギーH+ビームの放射線特性の評価と緩和策
静電チャック長寿命化と安定性能を達成するための耐摩耗性表面コーティング自己完結
型予測システム診断センサー
超高エネルギー注入におけるヒ素とアンチモンのドーパント分布プロファイル比較
イオン注入とアニーリングの最適化によるワイドバンドギャップ素材の新たな課題と機会
アクセリス社製高エネルギーイオン注入装置用デュアルカソードイオン源
低金属イオン源
アクセリス・テクノロジーズのラッセル・ロウ社長兼最高経営責任者（CEO）は次のように述べています。「イオン注入業界で最も重要な技術フォーラムの1つであるIIT 2024のプラチナスポンサーを務めることができ、大変光栄に思います。特に、アクセリスにとって非常に重要な市場である日本でのイベントに今年参加できることを嬉しく思います。アクセリスは、拡大する顧客基盤に対応するため、日本国内に複数の拠点を新たに開設いたしました。私たちは、最も革新的で効果的なインプラント技術とサポートソリューションを提供し、お客様の成功を確実にサポートすることで、自社の世界的な市場シェアの拡大に引き続き注力していきます」
IIT 2024の詳細や登録については、IITの公式ウェブサイトhttps://smartconf.jp/content/iit2024をご覧ください。
アクセリスについて：
マサチューセッツ州ビバリーに本社を置くアクセリス（Nasdaq：ACLS）は、45年以上にわたり半導体業界に革新的で生産性の高いソリューションを提供してきました。アクセリスは、IC製造プロセスにおいて最も重要で不可欠な工程の一つである、イオン注入システムの設計、製造、および完全なライフサイクルサポートを通じて、最適なプロセスアプリケーションを実現する開発に従事しています。アクセリスの詳細については、www.axcelis.comをご覧ください。
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